НИЯУ МИФИ впервые вошёл в авторитетный Шанхайский рейтинг
В этом году впервые в рейтинге были оценены университеты по 7 инженерным направлениям – химическая инженерия; гражданское строительство; электроника и электронная инженерия; энергетика и энергомашиностроение; научно-техническое обеспечение охраны окружающей среды; материаловедение и машиностроение. В рейтинг вошли три российских вуза – Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» (электроника и электронная инженерия, группа 301 – 400), МГУ им. М.В. Ломоносова (материаловедение, группа 401-600) и Уфимский государственный авиационный университет (материаловедение, группа 401-600). Всего в рейтинге представлено более 730 высших учебных заведений из 55 стран мира.
Важно отметить, что НИЯУ МИФИ впервые вошёл в авторитетный Шанхайский рейтинг и был признан лучшим среди трёх представленных в нем университетов России по инженерным направлениям, тем самым в очередной раз подтвердив свои конкурентные преимущества на пути к глобальному лидерству в области технического образования.
«Шанхайский рейтинг является наиболее сложным для российских университетов, что подтверждается и данным рейтингом ShanghaiRanking's Global Ranking of Academic Subjects 2016, в который попали только три российских университета», – прокомментировал результаты исследования ректор Национального исследовательского ядерного университета «МИФИ» Михаил Стриханов. «Приятно, что НИЯУ МИФИ попал в их число, причём с лучшим результатом», – добавил он.
Комментарии